一種間歇式微動電鍍方法及裝置
 專利名稱 |
一種間歇式微動電鍍方法及裝置 |
| 申請日 (校編號) |
2003/04/03 (091013TW) |
| 專利證書號 |
I311166 中華民國 |
| 專利權人 |
國立中央大學 |
| 發明人 |
林景崎、江士標、李棟樑、陳承志 |
| 技術摘要： |
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| 一種間歇式微動電鍍方法及裝置,該方法由一個幫浦强制補充循環電鍍液至電鍍系統中的陰極基板附近,以降低電解液濃度差異,消除析鍍物的空心、直徑細化及樹枝狀現象,又,藉由該裝置控制電鍍陽極的電場强度,且當陰極析出物將接觸陽極時,先停止陽極的電力並將陽極垂直位移後續行電鍍,使電力線均勻分布,故表面可析鍍平滑密實;該裝置包含至少一個控制電路及移位裝置,控制電路主宰陽極通電電流大小及通、斷電,並控制驅動該移位裝置間歇地垂直上移電鍍陽極。 |
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| 解決的問題或達成的功效： |
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| 藉由一幫浦強制循環補充電鍍液至電 鍍系統陰極基板附近，降低陰極附近電解液濃度差異，消除析鍍 物空心、直徑細化及樹枝狀等現象。
提出以一種間歇式微動電鍍裝 置控制電鍍陽極的電場強度，使電鍍陽極與陰極間電力線分佈均 勻，以析鍍出表面平滑密實電鍍物。 |
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| 應用領域： |
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| 關於一種用於製作微元件的電鍍方法及裝置，尤指 一種用於製作微元件的間歇式微動電鍍方法及裝置。 |
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| 適用產品： |
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| 微型裝置電鍍 |
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| IPC： |
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| C25D-005/00(2006.01); |
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| Claim 1： |
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| 1.一種間歇式微動電鍍裝置,設置有一電鍍系統,該電鍍系統具有至少一陰極與至少一陽極,當電鍍時,在該陰極上會成長一析鍍物,包含:
至少一移位裝置,該移位裝置係結合該電鍍系統之陽極,能將該陽極垂直向上位移,以控制於該陰極上之該析鍍物成長高度;
至少一控制電路,該控制電路連結該電鍍系統的陰極或陽極,以提供該電鍍系統的陰極或陽極所需之該直流電鍍電源,並且對介於該電鍍系統的陰極及陽極間之一電鍍迴路上之電流進行感測,使當位於該陰極之析鍍物接近該陽極時,對該陽極進行斷電並驅動該移位裝置。 |
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