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位移量測裝置及其量測方法APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING DISPLACEMENT
專利名稱 位移量測裝置及其量測方法 APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING DISPLACEMENT
申請日 (校編號) 2010/05/03  (098029US)
2009/10/28  (098029TW)
專利證書號 8,526,007  美國
I403687 中華民國
專利權人 國立中央大學
發明人 李朱育、林坤億、黃思翰


技術摘要:
本發明之位移量測裝置及其量測方法,其包含一第一光束與一第二光束;一第一反射結構反射第一光束至一待測物之表面;一第二反射結構反射第二光束至待測物之表面,反射後之第一光束與反射後之第二光束具有一光程差,待測物散射第一光束與第二光束所匯集之一散射光,散射光具有一干涉信號;一光偵測器接收散射光之干涉信號;一運算單元接收並計算干涉信號以產生一位移量。藉由第一反射結構與第二反射結構以使入射光線所分之一第一光束與一第二光束產生不同的光程差,如此使位移量測裝置結構簡化,並可有效量測待測物之位移或是振動的幅度。

解決的問題或達成的功效:
藉由第一反射結構與第二反射結構以使入射光線所分之一第一光束與一第二光束產生不同的光程差,如此使位移量測裝置結構簡化,並可增加量測待測物之位移或是振動的幅度。藉由第一反射結構與第二反射結構以使入射光線所分之一第一光束與一第二光束產生不同的光程差,如此可使位移量測裝置微型化,並可增加量測待測物之位移或是振動的幅度。

應用領域:
關於一種量測裝置及其量測方法,特別是指一種位移量測裝置及其量測方法。

適用產品:
奈米檢測

IPC:
G01B9/02097 G01B9/02002

Claim 1:
1.一種位移量測裝置,包含:一光源;一分光鏡,接收該光源所發出之一入射光線,該分光鏡將該入射光線分為一第一光束與一第二光束;一第一反射結構,反射該第一光束至一待測物之表面;一第二反射結構,反射該第二光束至該待測物之表面,反射後之該第一光束與反射後之該第二光束具有一光程差,該待測物散射該第一光束與該第二光束所匯集之一散射光,該散射光具有一干涉信號;一光偵測器,接收該散射光之該干涉信號;以及一運算單元,接收並計算該干涉信號以產生一位移量。

相關圖片:
     
 
     
 
     
 
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