專利名稱 | 水平式累崩型光檢測器結構 LATERAL AVALANCHE PHOTODIODE STRUCTURE |
申請日 (校編號) | 2011/09/22 (100024US) 2011/07/26 (100024TW) |
專利證書號 | 8,445,992 美國 I458111 中華民國 |
專利權人 | 國立中央大學 |
發明人 | 辛裕明、周芳嬪、李姿瑩、王靖雯 |
技術摘要: | ||||||||
一種水平式累崩型光檢測器結構,包括基底、PN二極體及金屬層。基底具有水平排列的至少一第一電極區、至少一吸光區與至少一第二電極區,其中第一電極區亦為累崩區,且吸光區配置在第一電極區及第二電極區之間。PN二極體配置於第一電極區的基底中。金屬層配置於基底上,覆蓋第一電極區與第二電極區,但未覆蓋吸光區。 |
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解決的問題或達成的功效: | ||||||||
本發明是有關於一種半導體元件,且特別是有關於一種水平式累崩型光檢測器(avalanche photodiode,APD)結構。 |
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應用領域: | ||||||||
光檢測器 |
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適用產品: | ||||||||
水平式累崩型光檢測器 |
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IPC: | ||||||||
H01L-031/107(2006.01) |
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Claim 1: | ||||||||
1.一種水平式累崩型光檢測器結構,包括:具有一第一導電型之一基底,具有水平排列的至少一第一電極區、至少一吸光區與至少一第二電極區,其中該第一電極區亦為累崩區,且該吸光區配置在該第一電極區及該第二電極區之間;一PN二極體,配置於該第一電極區的該基底中;以及一金屬層,配置於該基底上,覆蓋該第一電極區與該第二電極區,但未覆蓋該吸光區。 |
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