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可調均勻光源罩之裝置
專利名稱 可調均勻光源罩之裝置
申請日 (校編號) 2009/08/10  (098035TW)
專利證書號 I371551 中華民國
專利權人 國立中央大學
發明人 陳奇夆、梁裕旼、許朝欽


技術摘要:
本發明係為一種可調均勻光源罩裝置,接收來自發光單元之光源,其包含殼體與二次光學單元。殼體具有容置空間,且在容置空間之上下面,分別地具有上結合部與下結合部。二次光學單元設置於殼體之上結合部,且具有至少一入射面與至少一出射面之複數透鏡,用以控制光源之出射光之均勻度與角度。其中,發光單元與殼體之下結合部接合,且光源透過容置空間入射至二次光學單元之入射面,並於二次光學單元之出射面以獲得出射光。

解決的問題或達成的功效:
本發明一方面係提供一可調均勻光源罩裝置,透過與殼體結合之二次光學單元,使得與該可調均勻光源罩裝置結合之外部發 光源,控制其均勻度與角度於該二次光學單元之出射面。 

應用領域:
本發明係為一可調均勻光源罩之裝置,特別的是在發光二極體上,設置可調均勻光源罩裝置,用以控制發光二極體之出射光之均勻度與角度。 

適用產品:
均勻光源

IPC:
F21V-003/00(2006.01);G02B-003/00(2006.01);F21Y-101/02(2006.01)

Claim 1:
1.一種可調均勻光源罩之裝置,接收來自一發光單元之一光源,其包含:一殼體,具有一容置空間,且在該容置空間之上下面,分別地具有一上結合部與一下結合部;以及一二次光學單元,設置於該殼體之該上結合部,且具有至少一入射面與至少一出射面之複數透鏡,用以控制該光源之一出射光之均勻度與角度;其中該發光單元與該殼體之該下結合部接合,且該光源透過該容置空間入射至該二次光學單元之該入射面,並於該二次光學單元之該出射面以獲得該出射光。 

相關圖片:
     
 
     
 
     
 
聯繫方式
聯絡人:研發處智權技轉組 與我連絡
電話:03-4227151 #27076、27077 網址:http://www.caic.ncu.edu.tw/
地 址: 32001桃園市中壢區中大路300號
 
                 
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