可調均勻光源罩之裝置
 專利名稱 |
可調均勻光源罩之裝置 |
| 申請日 (校編號) |
2009/08/10 (098035TW) |
| 專利證書號 |
I371551 中華民國 |
| 專利權人 |
國立中央大學 |
| 發明人 |
陳奇夆、梁裕旼、許朝欽 |
| 技術摘要： |
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| 本發明係為一種可調均勻光源罩裝置，接收來自發光單元之光源，其包含殼體與二次光學單元。殼體具有容置空間，且在容置空間之上下面，分別地具有上結合部與下結合部。二次光學單元設置於殼體之上結合部，且具有至少一入射面與至少一出射面之複數透鏡，用以控制光源之出射光之均勻度與角度。其中，發光單元與殼體之下結合部接合，且光源透過容置空間入射至二次光學單元之入射面，並於二次光學單元之出射面以獲得出射光。 |
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| 解決的問題或達成的功效： |
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| 本發明一方面係提供一可調均勻光源罩裝置，透過與殼體結合之二次光學單元，使得與該可調均勻光源罩裝置結合之外部發 光源，控制其均勻度與角度於該二次光學單元之出射面。 |
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| 應用領域： |
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| 本發明係為一可調均勻光源罩之裝置，特別的是在發光二極體上，設置可調均勻光源罩裝置，用以控制發光二極體之出射光之均勻度與角度。 |
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| 適用產品： |
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| 均勻光源 |
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| IPC： |
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| F21V-003/00(2006.01);G02B-003/00(2006.01);F21Y-101/02(2006.01) |
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| Claim 1： |
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| 1.一種可調均勻光源罩之裝置，接收來自一發光單元之一光源，其包含：一殼體，具有一容置空間，且在該容置空間之上下面，分別地具有一上結合部與一下結合部；以及一二次光學單元，設置於該殼體之該上結合部，且具有至少一入射面與至少一出射面之複數透鏡，用以控制該光源之一出射光之均勻度與角度；其中該發光單元與該殼體之該下結合部接合，且該光源透過該容置空間入射至該二次光學單元之該入射面，並於該二次光學單元之該出射面以獲得該出射光。 |
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| 相關圖片： |
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