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技術摘要：

一種電泳研磨拋光裝置及電泳研磨拋光方法，該電泳研磨拋光裝置包含一槽體、一伸入該槽體內的旋轉研磨單元、一升降單元及一電源供應器。該升降單元包括一升降組合體，及一設置於該升降組合體上並位於該槽體內的電極，該電源供應器供電給該電極與該旋轉研磨單元。當該升降組合體朝向一增電限制位置移動時，該電極鄰近該研磨座；當朝向一減電限制位置移動時，該電極遠離該研磨座。藉電泳研磨液內之研磨粒沈積於該旋轉研磨單元上，藉以研磨拋光金屬薄板，使得易量產、並減少熱效應，藉由改變該電極的位置以控制的沈積速度來提升拋光品質。

解決的問題或達成的功效：

本發明是有關於一種拋光裝置，特別是指一種電泳研磨拋光裝置及電泳研磨拋光方法。

應用領域：

本發明電泳研磨拋光裝置的功效在於藉由將該研磨座與該電極通電，該電泳研磨液之研磨粒能沈積於該旋轉研磨單元上，藉以研磨薄板，此種方式使得該電泳研磨拋光裝置易量產、拋光品質較佳、減少熱效應及變形且利於薄板精密拋光研磨。該升降組合體能改變該電極的位置，而控制該電泳研磨液之研磨粒的沈積速度，而使得拋光品質更加的提升。

適用產品：

拋光
研磨

IPC：

B24B-037/00(2006.01);B24B-057/00(2006.01)

Claim 1：

1.一種電泳研磨拋光裝置，適用於供容裝電泳研磨液以研磨一工件，該電泳研磨拋光裝置包含：一機台單元，包括一容裝該電泳研磨液與該工件的槽體；一旋轉研磨單元，可相對該工件旋轉以研磨該工件，並包括一伸入該槽體內的研磨座；一升降單元，包括一升降組合體，及一設置於該升降組合體上並位於該槽體內的電極，該升降組合體可以相對該槽體在一增電限制位置與一減電限制位置間移動，當該升降組合體朝向該增電限制位置移動時，該電極朝向鄰近該研磨座方向移動，當該升降組合體朝向該減電限制位置移動時，該電極朝遠離該研磨座方向移動；及一電控單元，包括一供電給該電極與該研磨座的電源供應器。

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專利名稱	電泳研磨拋光裝置及電泳研磨拋光方法
申請日 (校編號)	2007/12/20 (096100TW)
專利證書號	I339145　中華民國
專利權人	國立中央大學
發明人	張振暉、顏炳華、江文欽、崔海平、林大裕