親水光學膜層結構
 專利名稱 |
親水光學膜層結構 |
| 申請日 (校編號) |
2015/11/17 (104018TW) |
| 專利證書號 |
I556976 中華民國 |
| 專利權人 |
國立中央大學 |
| 發明人 |
李正中、魏宏森、郭倩丞、張雅真 |
| 技術摘要： |
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| 本案係關於一種親水光學膜層結構，適用於光學基材，包括光學穿透膜，形成於光學基材；以及親水光學膜，形成於光學穿透膜之上，且包含莫耳濃度為1比0.1至1比2之二氧化鈦及二氧化矽，並架構於以紫外光照射後，使水接觸角小於10度角，以提升親水性，俾提高該光學基材之光學穿透率為91%至98%。 |
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| 解決的問題或達成的功效： |
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| 根據本案之構想，當該第一光學膜層、該第二光學膜層、該第三光學膜層、該第四光學膜層及該第五光學膜層依序形成於該光學基材之一第一表面，該光學基材之光學穿透率係提高為91%至95%。
根據本案之構想，當該第一光學膜層、該第二光學膜層、該第三光學膜層及該第四光學膜層依序且對稱地同時形成於該光學基材之一第一表面及一第二表面，且該第五光學膜層形成於位於該第一表面之該第四光學膜層或位於該第二表面之該第四光學膜層，該光學基材之光學穿透率係提高為91%至98%。 |
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| 應用領域： |
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| 本案係關於一種光學膜層結構，尤指一種應用於光學基材之親水光學膜層結構。 |
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| 適用產品： |
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| 光學膜層結構 |
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| IPC： |
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| B32B-009/00(2006.01);G02B-001/10(2015.01) |
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| Claim 1： |
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| 1.親水光學膜層結構，適用於一光學基材，包括：一光學穿透膜，形成於該光學基材，且該光學穿透膜係以二氧化矽之溶液或以電子槍蒸鍍形成；以及一親水光學膜，形成於該光學穿透膜之上，且包含莫耳濃度為1比0.1至1比2之二氧化鈦及二氧化矽，並架構於以紫外光照射後，使水接觸角小於10度角，以提升親水性，俾提高該光學基材之光學穿透率為91%至98%。 |
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| 聯繫方式 |
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