 技術摘要： |
本發明是一種旋轉式曝光機，該旋轉式曝光機包含承載單元、致動單元、載具與控制單元。該承載單元能夠設置複數待曝光物。該致動單元設置在該承載單元之上。該致動單元輸出一扭力。該載具包含一盤體與複數發光體。該等發光體依照一光源佈局設置在該盤體之上。該載具受到該扭力而以一轉速朝一方向轉動。藉由排列每一該等發光體出射的一光線，讓該等光線均勻地出射至該等待曝光物，讓該等待曝光物能受到相同或相似的曝光能量。該控制單元輸出一控制訊號驅動該等發光體。該控制訊號決定該等發光體的開啟與關閉，以及決定每一該等發光體的發光強度。
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| 解決的問題或達成的功效： |
提供一種旋轉式曝光機，能夠在一時間內對一待曝光物提供均勻的曝光能量，而讓該待曝光物可受到相同或相似的曝光能量。
透過估算該等發光體之間的距離、分佈方式與發光強度，可採用該等發光體的最低限度數量，以達到低成本與高均勻度的功效。
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| 應用領域： |
關於曝光機的技術領域
特別是一種對一待曝光物進行高均勻度光能量曝光的旋轉式曝光機。
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| 適用產品： |
旋轉式曝光機
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| IPC： |
G03F-007/20(2006.01)
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| Claim 1： |
1.一種旋轉式曝光機，包含：一承載單元，供設置複數待曝光物；一致動單元，係設置在該承載單元之上，該致動單元輸出一扭力；一載具，係具有一盤體與複數發光體，該等發光體依照一光源佈局設置在該盤體之上，該載具結合該致動單元，該載具受到該扭力而以一轉速朝一方向旋轉，藉由排列每一該等發光體出射的一光線，讓該等光線均勻地出射至該等待曝光物，供該等待曝光物受到相同或相似的曝光能量；以及一控制單元，係連接該等發光體，該控制單元輸出一控制訊號驅動該等發光體，其中該控制訊號決定該等發光體的開啟與關閉，以及該等發光體的發光強度；根據該等發光體的特性，利用一演算法估算出該等發光體的參數，而該參數讓該等發光體均勻地出射至該待曝光物，其中該演算法的步驟包含，步驟S1，係選擇該光源佈局的排列方式；步驟S2，係測量該等發光體的特性，以取得光出射角度、光出射高度、光驅動電流電壓與發光強度之至少一者的一處理配光參數；步驟S3，係該處理配光參數與至少一階的線性曲線進行擬合；以及步驟S4，估算出每一該等發光體所需調整的參數。
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