用於放射治療的質子束放射量偵測裝置
 專利名稱 |
用於放射治療的質子束放射量偵測裝置 |
| 申請日 (校編號) |
2014/08/08 (103028TW) |
| 專利證書號 |
M490011 中華民國 |
| 專利權人 |
國立中央大學 |
| 發明人 |
陳鎰鋒、鄧炳坤、林志勳、朱明禮 |
| 技術摘要： |
||||||||||||||||||||||||||||||||
| 一種用於放射治療的質子束放射量偵測裝置，包含一高壓電極、一分段電極以及一間隔件，該高壓電極包括一高壓區以及一圍繞該高壓區的第一接地區，該分段電極包括一偵測區、一圍繞該偵測區的第二接地區以及複數設置於該偵測區的像素，該間隔件設置於該高壓電極以及該分段電極之間且具有一連接於該第一接地區與該第二接地區的框架本體以及一由該高壓區、該偵測區以及該框架本體圍繞形成並使該些像素容置其中的離子腔室。由於該間隔件之結構簡單，可減輕質子束放射量偵測裝置的重量，進而增加偵測的準確度。 |
||||||||||||||||||||||||||||||||
| 解決的問題或達成的功效： |
||||||||||||||||||||||||||||||||
| 本新型為有關一種放射治療設備，尤指一種質子束放射量偵測裝置。 |
||||||||||||||||||||||||||||||||
| 應用領域： |
||||||||||||||||||||||||||||||||
| 藉由該間隔件的設置，可於該高壓電極以及該分段電極之間形成該離子腔室並使該些像素容置其中，由於該間隔件之結構簡單，並無孔洞之設計，製造上毋須特別的加工製程，故可達到降低成本之效果。且重量將較習知偵測器更輕，故可降低其對於噴嘴定位或移動時之影響，進而增加偵測放射量時的準確度。 |
||||||||||||||||||||||||||||||||
| 適用產品： |
||||||||||||||||||||||||||||||||
| 放射治療 |
||||||||||||||||||||||||||||||||
| IPC： |
||||||||||||||||||||||||||||||||
| G01T-001/29(2006.01);A61N-005/00(2006.01) |
||||||||||||||||||||||||||||||||
| Claim 1： |
||||||||||||||||||||||||||||||||
| 1.【第1項】 一種用於放射治療的質子束放射量偵測裝置，包含： 一高壓電極，該高壓電極包括一高壓區以及一圍繞該高壓區的第一接地區； 一與該高壓電極相對設置的分段電極，該分段電極包括一與該高壓區對應設置的偵測區、一圍繞該偵測區的第二接地區以及複數設置於該偵測區的像素；以及 一設置於該高壓電極以及該分段電極之間的間隔件，該間隔件具有一連接於該第一接地區與該第二接地區的框架本體、以及一由該高壓區、該偵測區以及該框架本體圍繞形成的離子腔室，且該些像素容置於該離子腔室之中。 |
||||||||||||||||||||||||||||||||
| 相關圖片： |
||||||||||||||||||||||||||||||||
| ||||||||||||||||||||||||||||||||
| 聯繫方式 |
||||||||||||||||||||||||||||||||
|
||||||||||||||||||||||||||||||||
|
| 瀏覽人數：44589 |
與我連絡