有機金屬化學氣相沉積設備進氣設備進氣系統輔助流道設計 The subsidiary inlet for gas injection system on the MOCVE(Metal-organic Chemical Vapor Deposition)
 專利名稱 |
用於有機金屬化學氣相沉積設備之進氣系統 INLET SYSTEM FOR METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS |
| 申請日 (校編號) |
2014/02/26 (102036TW) |
| 專利證書號 |
I545224 中華民國 |
| 專利權人 |
國立中央大學 |
| 發明人 |
陳志臣、張敬信 |
| 技術摘要： |
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| 本發明為一種用於有機金屬化學氣相沉積設備之進氣系統，其包括：主要進氣模組及輔助進氣模組。主要進氣模組用以通載反應氣體，輔助進氣模組則用以通載載流氣體。輔助進氣模組設置於主要進氣模組之外圍，以減少渦流的產生並阻隔反應氣體對腔壁的污染，同時能集中反應氣體以達到提升反應氣體的反應率及薄膜生長率。 |
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| 解決的問題或達成的功效： |
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| 一、提升反應氣體的反應率及薄膜生長率；
二、減少渦流的產生，以提高薄膜生長的均勻性與穩定性；
三、減少污染，並降低反應器腔體之清洗維護頻率，提升設備的 使用效率，進而降低生產成本。 |
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| 應用領域： |
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| 關於一種進氣系統
特別是關於一種用於有機金屬化學氣相沉積設備之進氣系統。 |
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| 適用產品： |
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| MOCVD系統
半導體技術 |
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| IPC： |
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| C23C-16/455(2006.01);
C23C-016/54(2006.01) |
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| Claim 1： |
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| 1.一種用於有機金屬化學氣相沉積設備之進氣系統，其包括：一主要進氣模組，用以通載至少一反應氣體；以及一輔助進氣模組，其設置於該主要進氣模組之外圍，並且包括至少一輔助進氣流道，用以通載一載流氣體。 |
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| 聯繫方式 |
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