專利名稱 | 脈衝式電泳研磨裝置 |
申請日 (校編號) | 2007/12/27 (100097TW) |
專利證書號 | I365234 中華民國 |
專利權人 | 國立中央大學 |
發明人 | 張振暉、顏炳華、江文欽、崔海平、林大裕 |
技術摘要: | ||||||||
一種脈衝式電泳研磨裝置,其係設有一研磨機台,於研磨機台頂部形成槽體供電泳研磨溶液盛裝,並設有上下相對的轉盤單元以及電極,藉由脈衝式電源供應裝置供應脈衝電源,使得轉盤單元及電極之間產生高低電位交替的電場,而讓電泳研磨溶液內的研磨粒被沉積或者拋離轉盤單元底部,如此更新轉盤單元上之研磨粒並增加研磨拋光效率,藉此以轉盤單元帶動研磨粒對金屬薄板表面研磨拋光,同時增設電泳研磨溶液攪動裝置,增加轉盤單元上之研磨粒的拋離速度及已拋離於轉盤單元之研磨粒於電泳研磨溶液中的擴散速度,因此使轉盤單元之研磨粒更換效果增加,進而提升研磨拋光效果。 |
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解決的問題或達成的功效: | ||||||||
本發明係涉及一種拋光設備,尤指一種具有切削刃常新以及拋光表面粗糙度佳特性的脈衝式電泳研磨裝置 |
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應用領域: | ||||||||
本發明藉由沉積研磨粒於轉盤單元的方式,容易地形成具小粒徑之磨輪,以提供使用者拋光製程之利用,藉此促使磨輪研磨粒的微小化,以改善不易使用小研磨粒製成傳統磨輪的瓶頸。 由於研磨粒可交替於拋光墊產生汰換的效果,使轉盤單元的上之研磨粒切削刃常新,因此於拋光的過程中不會發生研磨燒焦的現象,也不會有切屑填滿研磨粒間隙的缺點,藉此提升精密拋光研磨的效果。 |
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適用產品: | ||||||||
拋光機 |
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IPC: | ||||||||
C25F-003/16(2006.01);C25F-003/30(2006.01) |
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Claim 1: | ||||||||
1.一種脈衝式電泳研磨裝置,其係用於容裝電泳研磨溶液及利用沉積之研磨粒研磨一加工件,其係包括:一研磨機台,該研磨機台設有一底座,於該底座頂部形成一槽體,該研磨機台於頂部設有一轉盤單元,該轉盤單元的底部朝下伸抵該槽體內,藉此沉積研磨粒於其上,並用以研磨該加工件,且該槽體內對應該轉盤單元的下方固設一提供定位加工件之定位台以及一電極;及一脈衝式電源供應裝置,該脈衝式電源供應裝置係供應該研磨機台脈衝式電源。 |
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