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去除戴奧辛類化合物的系統及方法
專利名稱 去除戴奧辛類化合物的系統及方法
SYSTEM AND METHOD FOR REDUCTION OF DIOXIN
申請日 (校編號) 2011/11/09  (100045TW)
專利證書號 I424877 中華民國
專利權人 國立中央大學
發明人 張木彬、張書豪、洪保鎮


技術摘要:
本發明係提供一種去除戴奧辛類化合物的系統。該系統包含一吸附設備,具有複數球狀活性碳,該等球狀活性碳的Brunauer-Emmett-Teller(BET)比表面積介於550~1000 m2/g。


解決的問題或達成的功效:
本發明係關於一種去除化合物的系統,尤指一種去除戴奧辛類化合物的系統。

應用領域:
戴奧辛類化合物具有極高之生物毒性,本發明提供一種去除戴奧辛類化合物的方法。

適用產品:
觸媒過濾系統;觸媒濾管

IPC:
B01J-020/20(2006.01);C01B-031/08(2006.01);B01D-053/04(2006.01);B01D-053/72(2006.01);B01D-053/73(2006.01)

Claim 1:
1.一種去除戴奧辛類化合物的系統,包含:一吸附設備,具有複數球狀活性碳,該等球狀活性碳的Brunauer-Emmett-Teller(BET)比表面積介於550~1000m 2 /g,且每單位質量(1g)中,複數微孔隙(<2nm)的體積介於0.37~0.42cm 3 ,複數中孔隙(<2~50nm)的體積介於0.23~0.25cm 3 ,複數巨孔隙(>50nm)的體積介於0.14~0.19cm 3 ,總孔隙體積介於0.79~0.81cm 3 ,而平均直徑介於23.8~26.1Å。

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