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薄膜元件之多波長光學測量方法Method for monitoring thin film deposition using dynamic Interferometer
專利名稱 薄膜元件之多波長光學量測方法Method for monitoring thin film deposition using dynamic Interferometer
申請日 (校編號) 2010/12/06  (099079TW)
2010/06/12  (099079JP)
專利證書號 I547683 中華民國
5461376 日本
專利權人 國立中央大學
發明人 李正中、吳鍇


技術摘要:
本發明為一種薄膜元件之多波長光學量測方法,其以一多波長之干涉儀透過廣波域光源量測薄膜之光學常數及厚度。由於轉換光源波長時,驅使薄膜之待測面的反射相位與參考面的反射相位所造成的相位差與在空間上待測光與參考光之光程差所造成的相位差,兩者轉換方式不同。本法藉由此特性將這兩者區分開來,進而求得薄膜之反射係數之相位;再搭配各波長所量到的平均強度後計算出反射係數。接著再利用正向入射下所求得之二維資料,計算出薄膜厚度、光學常數的分佈、以及基板的表面輪廓。將待測薄膜元件成品置於動態干涉儀量測其反射係數,以避免震動因素以及空氣擾動對量測結果之影響。

解決的問題或達成的功效:
本發明為一種薄膜元件之多波長光學量測方法,其先使用一動態干涉儀依據不同波長之複數待測光與複數參考光量測該薄膜,且該待測光反射自薄膜而產生複數第一反射光,該些參考光反射自參考面產生複數第二反射光,該些第一反射光與該些第二反射光形成複數干涉光;接續由該動態干涉儀接收該干涉光並依據該些干涉光產生複數反射相位;然後依據該些反射相位與反射率取得該薄膜之反射係數。並以該反射係數計算各層厚度與各層折射率。如此本發明即可量測基板的表面輪廓,與薄膜的折射率、消光係數與厚度的分佈情形。

應用領域:
本發明係有關於一種薄膜特性的量測,特別是有關於一種薄膜元件之多波長光學量測方法,其係以多波長之動態干涉術量測薄膜之光學常數及厚度。 

適用產品:
薄膜特性的量測

IPC:
G01N-021/45(2006.01);G01N-021/17(2006.01)

Claim 1:
1.一種薄膜元件之多波長光學量測方法,其包含:使用一動態干涉儀依據不同波長之複數待測光與複數參考光量測該薄膜,該些待測光反射自一待測面產生複數第一反射光,該參考光反射自一參考面產生複數第二反射光,該些第一反射光與該些第二反射光形成複數干涉光,該待測面放置一薄膜,其中該動態干涉儀使用一光源透過一光準直器與一偏振片,用以提供該些待測光與該些參考光;使用一感光元件接收反射自參考面的參考光和反射自待測面的待測光,並依據此光強算得待測面的反射率;該感光元件接收該干涉光並依據該些干涉光產生複數反射相位;以及依據該些反射相位和反射率取得該薄膜之各層厚度與各層光學常數。 

聯繫方式
聯絡人:研發處智權技轉組 與我連絡
電話:03-4227151 #27076、27077 網址:http://www.caic.ncu.edu.tw/
地 址: 32001桃園市中壢區中大路300號
 
                 
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