技術摘要: |
本發明係有關於一種軸對稱液晶透鏡之製造方法,包括:(A)提供第一基板;(B)形成第一導電層於第一基板之表面;(C)形成第一光阻層於第一導電層之表面;(D)以雷射光於第一光阻層中形成具軸對稱次微米週期之第一圖案;(E)將第一光阻層顯影,以形成一具軸對稱次微米週期之第一圖案化薄膜於第一導電層之表面;(F)提供第二基板;以及(G)形成液晶層於第一具次微米週期之圖案化薄膜與第二基板之間,以形成一依序為第一基板、第一導電層、第一具軸對稱次微米週期之圖案化薄膜、液晶層、以及第二基板之層狀結構。本發明係有關於一種以此方法所製得之軸對稱液晶透鏡以及液晶配向基板。
|
解決的問題或達成的功效: |
本發明係關於一種液晶透鏡之製造方法、以此方法所製得之液晶透鏡、以及一種液晶配向基板,尤指一種使用雷射光蝕刻微影形成配向膜之液晶透鏡之製造方法、以此方法所製得之液晶透鏡、以及一種液晶配向基板。
|
應用領域: |
本領域亟需一種液晶透鏡之製造方法,使可解決傳統摩擦配向造成靜電以及碎片污染的問題,並提升圖案化薄膜的解析度以達到不施加電壓時液晶可自然達到軸對稱性的排列方式,並可製作更複雜軸對稱排列的液晶波板,更進一步地可減少製作時間及避免額外添加物,提升生產效率,製作出高品質之液晶透鏡。
|
適用產品: |
液晶透鏡
|
IPC: |
G02B-003/14(2006.01);G02F-001/1337(2006.01);H01L-021/027(2006.01)
|
Claim 1: |
1.一種液晶透鏡之製造方法,包括:(A)提供一第一基板;(B)形成一第一導電層於該第一基板之表面;(C)形成一第一光阻層於該第一導電層之表面;(D)以雷射光於該第一光阻層中形成一具次微米週期之第一圖案;(E)將該第一光阻層顯影,以形成一具次微米週期之第一圖案化薄膜於該第一導電層之表面,其中該具次微米週期之第一圖案之複數個溝槽的週期和起伏深度係由該薄膜中心向外遞增或遞減;(F)提供一第二基板;以及(G)形成一液晶層於該第一圖案化薄膜與該第二基板之間,以形成一依序為該第一基板、該第一導電層、該具次微米週期之第一圖案化薄膜、該液晶層、以及該第二基板之層狀結構。
|
相關圖片: |
|
聯繫方式 |
|
|