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微溝渠熱電材料形成方法 Method for preparing thermoelectric material with a nanotrough
專利名稱 微溝渠熱電材料形成方法 Method for preparing thermoelectric material with a nanotrough
申請日 (校編號) 2014/06/09  (103011TW)
專利證書號 I535082 中華民國
專利權人 國立中央大學
發明人 李勝偉、牛翊凡、李佩雯、辛正倫、曾重仁


技術摘要:
一種微溝渠熱電材料膜形成方法,其包括下列步驟:A)利用靜電紡絲形成多數彼此平行的犧牲材線,犧牲材線的直徑介於100-500nm;B)於犧牲材線的局部表面形成膜厚介於80-200nm的熱電材料膜;以及C)將犧牲材線自熱電材料膜去除,得到具有微溝渠的熱電材料膜,該熱電材料膜在徑向上的一側呈開放狀。 藉由上述方法所形成的微溝渠熱電材料膜具有較佳的尺寸均一性,且不會有催化劑殘留的問題,同時該微溝渠熱電材料膜在一維方向上具有小於聲子平均自由徑的尺寸,因此所形成的微溝渠熱電材料膜具有較佳的熱電性質。

解決的問題或達成的功效:
具有微溝渠的熱電材料膜的製備方法,本發明的特徵在於,以靜電紡絲形成的犧牲材線具有一致性很高的直徑,因此後續在犧牲材線局部表面形成熱電材料膜,最後再將犧牲材線移除之後,熱電材料膜上的微溝渠即具有一致性極高的內徑,而且製備過程中不會有催化劑殘留,因此可以製得符合所需熱電性質的熱電材料膜,以利於熱電材料膜的後續測試、應用。

應用領域:
具有微溝渠的熱電材料膜的製備

適用產品:
熱電元件

IPC:
H01L-035/34(2006.01);H01L-035/08(2006.01)

Claim 1:
1.一種微溝渠熱電材料膜形成方法,包括下列步驟:A)利用靜電紡絲形成多數彼此平行的犧牲材線,犧牲材線的直徑介於100-500nm;B)於犧牲材線的局部表面形成膜厚介於80-200nm的熱電材料膜;以及C)將犧牲材線自熱電材料膜去除,得到具有微溝渠的熱電材料膜,該熱電材料膜在徑向上的一側呈開放狀。

聯繫方式
聯絡人:研發處智權技轉組 與我連絡
電話:03-4227151 #27076、27077 網址:http://www.caic.ncu.edu.tw/
地 址: 32001桃園市中壢區中大路300號
 
                 
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