波導模態共振濾波器及其製作方法 GUIDED-MODE RESONATOR AND THE METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
 專利名稱 |
波導模態共振濾波器及其製作方法 Guided-mode resonance filter and fabrication method of same |
| 申請日 (校編號) |
2007/04/27 (095059US) 2006/09/29 (095059TW) |
| 專利證書號 |
7,352,932 美國 I308647 中華民國 |
| 專利權人 |
國立中央大學 |
| 發明人 |
張正陽、許哲隆、伍茂仁、王智明、劉勇志、周昱宏、蔡雅倫、李建階 |
| 技術摘要： |
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| 本案係為一種波導模態共振濾波器及其製作方法,該方法包含下列步驟:提供一半導體基板;於該半導體基板的一第一表面與一第二表面上分別形成出一第一薄膜和一第二薄膜;於該第一薄膜上定義出一第一開口;於該第二薄膜的一頂面上定義出一光柵結構;以及於該第一開口對該半導體基板進行蝕刻,並蝕刻至該第二薄膜的一底面,而能於該半導體基板之內部形成出一光通道空間。該光通道空間之底部係為該第一開口,該光通道空間之頂部係為該第二薄膜的該底面。 |
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| 解決的問題或達成的功效： |
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| 本案係為一種波導模態共振濾波器及其製作方法，尤指應用在微機電系統或微光機電系統之產品整合上，且係為利用半導體製程技術所加以製作出的波導模態共振濾波器及其製作方法。 |
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| 應用領域： |
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| 適用產品： |
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| IPC： |
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| G02B-006/34(2006.01) |
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| Claim 1： |
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| 1.一種波導模態共振濾波器之製作方法,該方法包含下列步驟: 提供一半導體基板; 於該半導體基板的一第一表面與一第二表面上分別形成出一第一薄膜和一第二薄膜; 於該第一薄膜上定義出一第一開口; 於該第二薄膜的一頂面上定義出一光柵結構;以及 於該第一開口對該半導體基板進行蝕刻,並蝕刻至該第二薄膜的一底面。 |
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| 相關圖片： |
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