一種低溫製造組織工程支架之方法A Scaffold Manufacturing Method for Tissue Engineering via Low-temperature Deposition
 專利名稱 |
低溫製造組織工程用支架的平台結構及低溫製造組織工程用支架的製造方法 PLATFORM STRUCTURE FOR USE IN LOW-TEMPERATURE MANUFACTURING OF SCAFFOLD FOR USE IN TISSUE ENGINEERING AND METHOD OF LOW-TEMPERATURE MANUFACTURING SCAFFOLD FOR USE IN TISSUE ENGINEERING |
| 申請日 (校編號) |
2016/06/02 (104032US) 2015/12/30 (104032TW) |
| 專利證書號 |
US 10,414, 088 B2 美國 I582885 中華民國 |
| 專利權人 |
國立中央大學 |
| 發明人 |
廖昭仰、曾清秀、杜方傑、林研聖、吳偉任 |
| 技術摘要： |
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| 本發明為一種低溫製造組織工程用支架的平台結構，包含：框體；環狀導溫構件，固定設於框體；導溫平台，可移動地設於環狀導溫構件中間，且導溫平台邊緣直接接觸環狀導溫構件內側壁，導溫平台與環狀導溫構件形成深度可變的空間；縱向移動機構，連接於導溫平台底部，驅動導溫平台下降，以使空間的深度逐漸增加；及低溫產生機構，連接環狀導溫構件，以降溫環狀導溫構件。本發明的平台結構於低溫製造的狀況下，有效避免高度較高的組織工程用支架之頂部變形，從而可製造高度較高的組織工程用支架，並能使組織工程用支架的內部結構尺寸均一化。 |
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| 解決的問題或達成的功效： |
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| 提供一種低溫製造組織工程用支架的平台結構，能於低溫製造組織工程用支架的狀況下，有效避免高度較高的組織工程用支架之頂部變形，從而可製造高度較高的組織工程用支架，並能使組織工程用支架的內部結構尺寸均一化。 |
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| 應用領域： |
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| 關於一種平台結構，更特別的是關於一種低溫製造組織工程用支架的平台結構。 |
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| 適用產品： |
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| 低溫製造組織工程 |
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| IPC： |
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| H01L-021/67(2006.01);
B33Y-030/00(2015.01);
B33Y-010/00(2015.01);
B33Y-040/00(2015.01);
G05B-019/4097(2006.01) |
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| Claim 1： |
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| 1.一種低溫製造組織工程用支架的平台結構，包含： 一框體； 一環狀導溫構件，固定設置於該框體； 一導溫平台，可移動地設置於該環狀導溫構件的中間，且該導溫平台的邊緣直接接觸該環狀導溫構件的內側壁，該導溫平台與該環狀導溫構件形成一深度可變的空間； 一縱向移動機構，連接於該導溫平台的底部，驅動該導溫平台下降，以使該空間的深度逐漸增加；及 一低溫產生機構，連接於該環狀導溫構件或該導溫平台，以降溫該環狀導溫構件及該導溫平台。 |
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| 聯繫方式 |
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