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倍頻非螢光基態耗損超解析顯微數 Non-fluorescence higher harmonic generation ground state depletion super-resolution microscopy
專利名稱 Method for non-fluorescence higher harmonic generation ground state depletion super-resolution microscopy
申請日 (校編號) 2015/09/08  (103067US)
2015/07/16  (103067TW)
專利證書號 9,851,545 美國
I560443 中華民國
專利權人 國立中央大學
發明人 陳思妤、張瑞芬、戴朝義、吳濠濠


技術摘要:
本發明為一種倍頻非螢光基態耗損超解析之顯微成像方法,其包括下列步驟:提供一有機材料單元;聚焦激發光及基態耗損光;產生倍頻訊號;進行基態耗損;以及進行顯微成像。藉由本發明之實施,以激發光照射並激發有機材料單元,使其電子受激發並跳躍至單重態能階並使其分子感應產生倍頻訊號;又以基態耗損光將有機材料單元之基態能階電子激發至單重態能階,並經由系間轉換至三重態能階而導致有機材料單元產生基態耗損,降低非線性吸收,並抑制倍頻訊號的強度,進而調制(調變)非螢光倍頻訊號在空間上的分布。如此,可以將STED超解析顯微成像技術應用到非螢光訊號的調變與顯微成像,並提高顯微成像之影像解析度。

解決的問題或達成的功效:
本發明進一步的技術特徵在於,該投影透鏡係為非球面透鏡,而各發光件係為白光LED。 

應用領域:


適用產品:


IPC:


Claim 1:


聯繫方式
聯絡人:研發處智權技轉組 與我連絡
電話:03-4227151 #27076、27077 網址:http://www.caic.ncu.edu.tw/
地 址: 32001桃園市中壢區中大路300號
 
                 
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