倍頻非螢光基態耗損超解析顯微數 Non-fluorescence higher harmonic generation ground state depletion super-resolution microscopy
 專利名稱 |
Method for non-fluorescence higher harmonic generation ground state depletion super-resolution microscopy |
| 申請日 (校編號) |
2015/09/08 (103067US) 2015/07/16 (103067TW) |
| 專利證書號 |
9,851,545 美國 I560443 中華民國 |
| 專利權人 |
國立中央大學 |
| 發明人 |
陳思妤、張瑞芬、戴朝義、吳濠濠 |
| 技術摘要： |
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| 本發明為一種倍頻非螢光基態耗損超解析之顯微成像方法，其包括下列步驟：提供一有機材料單元；聚焦激發光及基態耗損光；產生倍頻訊號；進行基態耗損；以及進行顯微成像。藉由本發明之實施，以激發光照射並激發有機材料單元，使其電子受激發並跳躍至單重態能階並使其分子感應產生倍頻訊號；又以基態耗損光將有機材料單元之基態能階電子激發至單重態能階，並經由系間轉換至三重態能階而導致有機材料單元產生基態耗損，降低非線性吸收，並抑制倍頻訊號的強度，進而調制(調變)非螢光倍頻訊號在空間上的分布。如此，可以將STED超解析顯微成像技術應用到非螢光訊號的調變與顯微成像，並提高顯微成像之影像解析度。 |
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| 解決的問題或達成的功效： |
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| 本發明進一步的技術特徵在於，該投影透鏡係為非球面透鏡，而各發光件係為白光LED。 |
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| 應用領域： |
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| 適用產品： |
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| IPC： |
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| Claim 1： |
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| 聯繫方式 |
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