技術摘要: |
一種質子治療設備之質子束的定位方法,首先,提供一質子治療設備;接著,利用一光學立體座標追蹤模組量測該質子治療設備的一旋轉臂移動的一實際旋轉座標,以取得一機械誤差;再利用一質子束偵測器量測該質子治療設備的一質子束噴嘴所射出的一質子束的一實際座標,以取得一磁場誤差;最後,利用該機械誤差與該磁場誤差調校一控制系統,令該旋轉臂得依一校正後旋轉座標移動而搭配該質子束噴嘴發射一校正後質子束至一正確座標。據此,本發明得以校正該質子束的偏移。
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解決的問題或達成的功效: |
本發明的主要目的,在於解決一質子束治療裝置,在使用的過程中,可能因自身重量使得所射出的一質子束產生偏移的問題。 為達上述目的,本發明提供一種質子治療設備之質子束的定位方法
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應用領域: |
本發明為有關一種發射一質子束以治療癌症的質子治療設備,尤指一種調校定位該質子束的方法。
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適用產品: |
質子束
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IPC: |
A61N-005/10(2006.01)
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Claim 1: |
1.一種質子治療設備之質子束的定位方法,包含有以下步驟: 步驟1:提供一質子治療設備,該質子治療設備包括一高能質子射源、一與該高能質子射源連接的旋轉臂、一設置於該旋轉臂並與該旋轉臂連動的質子束噴嘴以及一和該旋轉臂及該質子束噴嘴電性連接的控制系統; 步驟2:命令該旋轉臂移動至一預設旋轉座標,並利用一光學立體座標追蹤模組,以量測該旋轉臂所移動之一實際旋轉座標,比較該預設旋轉座標和該實際旋轉座標後取得一有關該旋轉臂的機械誤差; 步驟3:命令該質子束噴嘴朝一預設座標射出一質子束,並利用一質子束偵測器量測該質子束的一實際座標,比較該預設座標和該實際座標後取得一有關該質子束噴嘴的磁場誤差;以及 步驟4:根據該機械誤差與該磁場誤差調校該控制系統,令該旋轉臂得依照該控制系統的一第一指令移動至一校正後旋轉座標,且搭配該質子束噴嘴依照該控制系統的一第二指令發射一校正後質子束至一正確座標。
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