長晶爐之供氣裝置GAS SUPPLY DEVICE FOR USE IN CRYSTAL-GROWING FURNACE
 專利名稱 |
長晶爐之供氣裝置GAS SUPPLY DEVICE FOR USE IN CRYSTAL-GROWING FURNACE |
| 申請日 (校編號) |
2010/10/15 (099045TW) 2010/10/20 (099045CH) |
| 專利證書號 |
I418674 中華民國 1555291 中國 |
| 專利權人 |
國立中央大學 |
| 發明人 |
陳志臣、鄧應揚、呂中偉、陳學億 |
| 技術摘要： |
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| 本發明主要提供長晶爐一種能夠有效降低雜質濃度，藉以提升晶體品質之供氣裝置；所述之供氣裝置係包括有：一相對罩設於坩堝外圍的絕熱層、一設於絕熱層上的輸氣管，以及若干設於絕熱層的排氣孔；其中，輸氣管之管口處設有一組可供調整角度之導流罩，使熔湯之自由表面得以同步接受導引氣流之吹拂作用，而加速將雜質帶離自由表面之速率，以有效降低雜質濃度，藉以提熔湯冷卻固化後之晶體品質。 |
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| 解決的問題或達成的功效： |
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| 提供長晶爐一種可以有效降低雜質濃度，藉以提升晶體品質之供氣裝置
相對罩設於坩堝外圍的絕熱層、一設於絕熱層上的輸氣管，以及若干設於絕熱層的排氣孔，使得以配合由輸氣管輸入預定流速的氣體，藉以產生通過熱場的氣流，以將容易形成雜質的氧化物排出；尤其，輸氣管之管口處設有一組可供調整角度之導流罩，其通過輸氣管之氣流在導流罩之作用下，使熔湯之自由表面得以同步接受導引氣流之吹拂作用，達到有效降低雜質濃度之目的，進而提升晶體之品質。 |
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| 應用領域： |
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| 有關一種應用於長晶爐之供氣裝置，尤指一種可以有效降低雜質濃度之長晶爐供氣裝置。 |
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| 適用產品： |
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| 太陽能電池 |
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| IPC： |
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| Claim 1： |
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| 1.一種長晶爐之供氣裝置，係包括有：一相對罩設於坩堝外圍的絕熱層、一設於絕熱層上的輸氣管，以及若干設於絕熱層的排氣孔；其特徵在於：該輸氣管之管口處設有一組可供調整角度之導流罩，且該導流罩之外圍輪廓形狀與該坩堝內部輪廓形狀係為相同。 |
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| 聯繫方式 |
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