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高分子光波導元件之製作裝置與製作方法Manufacturing device and manufacturing method for polymer waveguide device
專利名稱 高分子光波導元件之製作裝置與製作方法 Manufacturing device and manufacturing method for polymer waveguide device
申請日 (校編號) 2008/12/02  (097036TW)
專利證書號 I394992 中華民國
專利權人 國立中央大學
發明人 戴朝義、曾家瑋


技術摘要:
本發明係有關於一種高分子光波導元件之製作裝置,其使用一基板設至於一工作平台,基板塗佈一高分子光阻膜;一飛秒雷射照射於高分子光阻膜;一透鏡設於飛秒雷射與基板之間。藉由飛秒雷射照設於高分子光阻膜,即可製作高分子光波導元件,如此則不需要複雜的製作過程,以提升高分子光波導元件之生產效率。

解決的問題或達成的功效:
本發明係有關於一種光波導元件之製作裝置與製作方法,高分子光波導元件之裝置與製作方法。

應用領域:
本發明之主要目的,在於提供一種高分子光波導元件之製作裝置及製作方法,其係藉由一飛秒雷射照設於一高分子光阻膜,即可製作高分子光波導元件,不需以雷射加工製作出逆45度斜面,如此則不需要複雜的製作過程,以提升高分子光波導元件之生產效率。

適用產品:
光波導元件

IPC:
G02B-006/122(2006.01)

Claim 1:
1.一種高分子光波導元件之製作裝置,包含:一工作平台;一基板,設於該工作平台,該基板塗佈一高分子光阻膜;一飛秒雷射,照射於該高分子光阻膜以產生一高分子光波導元件;以及一透鏡,設於該飛秒雷射與該基板之間。

相關圖片:
     
 
     
 
     
 
聯繫方式
聯絡人:研發處智權技轉組 與我連絡
電話:03-4227151 #27076、27077 網址:http://www.caic.ncu.edu.tw/
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