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技術摘要：

本發明係有關於一種高分子光波導元件之製作裝置，其使用一基板設至於一工作平台，基板塗佈一高分子光阻膜；一飛秒雷射照射於高分子光阻膜；一透鏡設於飛秒雷射與基板之間。藉由飛秒雷射照設於高分子光阻膜，即可製作高分子光波導元件，如此則不需要複雜的製作過程，以提升高分子光波導元件之生產效率。

解決的問題或達成的功效：

本發明係有關於一種光波導元件之製作裝置與製作方法，高分子光波導元件之裝置與製作方法。

應用領域：

本發明之主要目的，在於提供一種高分子光波導元件之製作裝置及製作方法，其係藉由一飛秒雷射照設於一高分子光阻膜，即可製作高分子光波導元件，不需以雷射加工製作出逆45度斜面，如此則不需要複雜的製作過程，以提升高分子光波導元件之生產效率。

適用產品：

光波導元件

IPC：

G02B-006/122(2006.01)

Claim 1：

1.一種高分子光波導元件之製作裝置，包含：一工作平台；一基板，設於該工作平台，該基板塗佈一高分子光阻膜；一飛秒雷射，照射於該高分子光阻膜以產生一高分子光波導元件；以及一透鏡，設於該飛秒雷射與該基板之間。

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專利名稱	高分子光波導元件之製作裝置與製作方法 Manufacturing device and manufacturing method for polymer waveguide device
申請日 (校編號)	2008/12/02 (097036TW)
專利證書號	I394992　中華民國
專利權人	國立中央大學
發明人	戴朝義、曾家瑋