 技術摘要： |
本發明係一種結合外差干涉術與剪切光柵干涉儀的位移量測系統。本發明包含有一外差光源模組與一剪切光柵干涉模組。一經過調制的外差光源經擴束系統後，一部分光束經過波片，產生偏振態旋轉，而另一部分光束則保持原先偏振態。兩光束經透鏡聚焦於光柵，並且產生繞射。兩光束的不同階繞射光將會重疊產生干涉。當光柵位移時，將於各階繞射光引進相位變化。重疊光束經分光後，通過兩個穿透軸相互垂直的偏振片，產生兩干涉訊號。利用光偵測器抓取兩干涉訊號。藉由比對兩訊號相位差即可得到光柵位移。在此技術中，光束所走路徑僅稍有不同，將使環境擾動所引進的誤差減至最低。
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| 解決的問題或達成的功效： |
提供一種結合外差光源與光柵干涉術之準共光程外差光柵干涉儀。
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| 應用領域： |
一種位移量測裝置，特別係利用外差式光源結合光柵剪切干涉技術之準共光程外差光柵干涉儀。
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| 適用產品： |
精密位移量測工具
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| IPC： |
G01B-009/02(2006.01)
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| Claim 1： |
1.一種準共光程外差光柵干涉儀，包括：一外差光源模組，其係產生一外差光束；一剪切光柵干涉儀，其包括：一擴束相位延遲系統，其包括：一組擴束系統，其係使該外差光束擴束以產生一外差擴束光束；及一相位延遲片，其係使該外差擴束光束中的一部份光束的光偏振態旋轉，而該外差擴束光束中另一部份光束的光偏振態不變，藉此使得該外差光源模組產生之光束入射至該擴束相位延遲系統後產生至少兩組相位有相對延遲之外差光源；一聚焦透鏡，使該些相位有相對延遲之外差光源聚焦至一光柵；該光柵，使聚焦至該光柵之該些相位有相對延遲之外差光源繞射出不同階數之至少一第一繞射光及一第二繞射光，並且該第一繞射光及該第二繞射光產生部份剪切重疊以產生一剪切重疊光束；一分光鏡，其係設置於該剪切重疊光束之光路徑上，並使該重疊光束分光成一第一分光光束及一第二分光光束；一第一檢偏裝置，設置於該第一分光光束之光路上，並使該第一分光光束經過該第一檢偏裝置後產生一第一干涉光；一第二檢偏裝置，設置於該第二分光光束之光路上，並使該第二分光光束經過該第二檢偏裝置後產生一第二干涉光；一第一光偵測器，用以偵測該第一干涉光之強度，並產生一第一干涉訊號；及一第二光偵測器，用以偵測該第二干涉光之強度，並產生一第二干涉訊號；以及一訊號處理器，分別抓取該第一干涉訊號及該第二干涉訊號，並進行相位抓取比對運算以得到一光柵位移情況。
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