長晶爐之氣流導引裝置GAS FLOW GUIDING DEVICE FOR USE IN CRYSTAL-GROWING FURNACE
 專利名稱 |
長晶爐之氣流導引裝置GAS FLOW GUIDING DEVICE FOR USE IN CRYSTAL-GROWING FURNACE |
| 申請日 (校編號) |
2010/12/02 (099043US) 2010/10/15 (099043TW) |
| 專利證書號 |
8,926,751 美國 I418675 中華民國 |
| 專利權人 |
國立中央大學 |
| 發明人 |
陳志臣、鄧應揚、呂中偉、陳學億 |
| 技術摘要： |
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| 本發明主要提供長晶爐一種能夠有效降低雜質濃度，藉以提升晶體品質之氣流導引裝置；所述之氣流導引裝置係包括有：一相對罩設於坩堝外圍的絕熱層、一設於絕熱層上的輸氣管，以及若干設於絕熱層的排氣孔；其中，輸氣管之管口處設有若干呈放射狀配置之導流板，使熔湯之自由表面得以同步接受導引氣流之吹拂作用，而加速將雜質帶離自由表面之速率，以有效降低雜質濃度，藉以提熔湯冷卻固化後之晶體品質。 |
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| 解決的問題或達成的功效： |
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| 有關一種應用於長晶爐之氣流導引裝置，尤指一種可以有效降低雜質濃度之長晶爐氣流導引裝置。 |
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| 應用領域： |
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| 輸氣管之管口處設有若干呈放射狀配置之導流板，其通過輸氣管之氣流即在導流板之作用下，使熔湯之自由表面得以同步接受導引氣流之吹拂作用，達到有效降低雜質濃度之目的，進而提升晶體之品質。 |
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| 適用產品： |
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| 太陽能電池 |
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| IPC： |
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| C30B-035/00(2006.01);C30B-011/00(2006.01) |
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| Claim 1： |
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| 1.一種長晶爐之氣流導引裝置，係包括有：一相對罩設於坩堝外圍的絕熱層、一設於絕熱層上的輸氣管，以及若干設於絕熱層上的排氣孔；其特徵在於：該輸氣管之管口處設有若干呈放射狀配置之導流板，而該輸氣管處設有一用以調節該輸氣管相對高度之高度調節機構；各導流板處設有用以調整導流板角度之角度調整機構。 |
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| 相關圖片： |
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