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長晶爐之氣流導引裝置GAS FLOW GUIDING DEVICE FOR USE IN CRYSTAL-GROWING FURNACE
專利名稱 長晶爐之氣流導引裝置GAS FLOW GUIDING DEVICE FOR USE IN CRYSTAL-GROWING FURNACE
申請日 (校編號) 2010/12/02  (099043US)
2010/10/15  (099043TW)
專利證書號 8,926,751  美國
I418675 中華民國
專利權人 國立中央大學
發明人 陳志臣、鄧應揚、呂中偉、陳學億


技術摘要:
本發明主要提供長晶爐一種能夠有效降低雜質濃度,藉以提升晶體品質之氣流導引裝置;所述之氣流導引裝置係包括有:一相對罩設於坩堝外圍的絕熱層、一設於絕熱層上的輸氣管,以及若干設於絕熱層的排氣孔;其中,輸氣管之管口處設有若干呈放射狀配置之導流板,使熔湯之自由表面得以同步接受導引氣流之吹拂作用,而加速將雜質帶離自由表面之速率,以有效降低雜質濃度,藉以提熔湯冷卻固化後之晶體品質。

解決的問題或達成的功效:
有關一種應用於長晶爐之氣流導引裝置,尤指一種可以有效降低雜質濃度之長晶爐氣流導引裝置。

應用領域:
輸氣管之管口處設有若干呈放射狀配置之導流板,其通過輸氣管之氣流即在導流板之作用下,使熔湯之自由表面得以同步接受導引氣流之吹拂作用,達到有效降低雜質濃度之目的,進而提升晶體之品質。

適用產品:
太陽能電池

IPC:
C30B-035/00(2006.01);C30B-011/00(2006.01)

Claim 1:
1.一種長晶爐之氣流導引裝置,係包括有:一相對罩設於坩堝外圍的絕熱層、一設於絕熱層上的輸氣管,以及若干設於絕熱層上的排氣孔;其特徵在於:該輸氣管之管口處設有若干呈放射狀配置之導流板,而該輸氣管處設有一用以調節該輸氣管相對高度之高度調節機構;各導流板處設有用以調整導流板角度之角度調整機構。

相關圖片:
     
 
     
 
     
 
聯繫方式
聯絡人:研發處智權技轉組 與我連絡
電話:03-4227151 #27076、27077 網址:http://www.caic.ncu.edu.tw/
地 址: 32001桃園市中壢區中大路300號
 
                 
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